機器の説明

５つの蒸発源を有す５元同時蒸着装置である。５蒸発源中３つは流出セル（最高温度1100℃），２つは電子ビームガンである。基板回転機構付きで基板加熱最高900℃である。酸化物薄膜成長用にオゾン化酸素導入状態で蒸着が可能である。

設置場所など